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相位掩模板
Description
相位掩模板其本质上也是一种光栅，光通过相位掩模板发生衍射，由于其特殊的结构，光的0级衍射被抑制，±1级衍射被增强。±1级的光打在光纤的纤芯上，致使纤芯的折射率发生改变，形成光栅，从而用于在光纤中刻写光纤光栅。
特点：
0/-1 order Phase mask
Holographically patterned, RIE etched
100% Class 10 cleanroom production
0.01 nm period accuracy and uniformity
Uniform period, or with continuous, linear chirp
订购参数：
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参数 |
规格 |
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相位掩膜板周期 |
400nm-2150nm |
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工作波长 |
193nm-800nm |
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材料 |
UV grade fused silica |
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模板周期的最高精度可达 |
±0.01nm |
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周期的均匀性 |
±0.01nm |
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啁啾率 |
0-20nm/cm |
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模板栅结构尺寸 |
10mmx10mm 25mmx10mm 50mmx10mm 100mmx10mm |
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衍射效率 |
0级衍射≤3%，±1级衍射≥33% |
Important Notice
Performance figures, data and any illustrative material provided in this data sheet are typical and must be specifically confirmed in writing by F-tone Networks before they become applicable to any particular order or contract. In accordance with the F-tone Networks policy of continuous improvement specifications may change without notice.
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